实验名称：纳米粒子掺杂对响应时间的影响

　　测试设备：高压放大器、信号发生器、示波器、热台控制器、衰减器、探测器等。

　　实验过程：

　　图1：VAN盒响应时间的测量装置

　　响应时间也是影响液晶显示图像残留的重要参数，响应时间越短越不容易产生图像残留。实验中测量响应时间的装置如图1所示，光源为632.8nm的红色激光，光源经过衰减器、可调光阑、偏振片和λ/4波片后成圆偏振光，经过起偏器后成线偏振光，起偏器与检偏器的光轴方向成90°，热台控制液晶盒的温度为28°C。信号发生器输出1kHzAC方波信号和DC信号的组合波形，组合波形的周期为2s，经高压放大器放大后施加在液晶盒上。当电压超过液晶盒阈值电压后，探测器会检测到光强的变化并传输到示波器上，通过示波器可以观察到液晶的动态响应过程。

　　实验结果：

　　图2：不同掺杂浓度γ-Fe₂O₃纳米粒子与负性LC混合物在VAN盒中的下降和上升时间

　　图3：不同掺杂浓度与响应时间的关系（a）归一化透过率与下降时间的关系；（b）归一化透过率与上升时间的关系；（c）下降时间与掺杂浓度的关系；（d）上升时间与掺杂浓度的关系

　　实验测得的不同掺杂γ-Fe₂O₃纳米粒子浓度对响应时间的影响如图2所示，由图可知纳米粒子掺杂对响应时间有一定的影响。图3（a）和图3（b）分别给出了下降时间和上升时间的放大图，其中下降时间为去电压过程，上升时间为加电压过程；由图3（c）和图3（d）可以看出上升时间和下降时间均随掺杂浓度的增加先降低后升高，并在掺杂浓度为0.034wt%时达到最低值，在掺杂浓度为0.034wt%时，下降时间可以缩短8.11%，上升时间可以缩短15.49%。SRDCV与响应时间随γ-Fe₂O₃纳米粒子掺杂变化规律一致，说明γ-Fe₂O₃纳米粒子的掺杂有效改善了VAN显示模式的图像残留现象。

　　高压放大器推荐：ATA-7015

　　图：ATA-7015高压放大器指标参数

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